三星电子计划在1nm级制程节点实现High NA EUV商业应用

【三星电子计划在1nm级制程节点实现High NA EUV商业应用】三星电子计划在1nm级工艺制程节点实现HighNAEUV设备的商业化应用。三星电子晶圆代工工艺开发团队朴昌民表示，对于2nm的SF2和1.4nm的SF1.4两个近期节点来说，HighNAEUV光刻图案化技术仍不算成熟。而更高的图案化分辨率将在1nm级成为刚需，因此三星晶圆代工正以此为目标与合作伙伴联合研发。